儀器設備

磁控濺鍍機

  • 放置位置:R3007
  • 管理者:沈炳臣
儀器代碼
廠牌型號
儀器功能 使用電漿對靶材進行離子轟擊,將靶材表面的原子撞擊出來。這些原子以氣體分子型式發射出來,並到達所要沉積的基板上,再經過附著、吸附、表面遷徙、成核等過程之後,在基板上成長形成薄膜。
儀器規格
儀器服務項目
注意事項
連結
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